看完本篇你就知道什么是RTP快速退火爐了
更新時(shí)間:2021-07-23 點(diǎn)擊次數(shù):7581
RTP快速退火爐近年來(lái)得到越來(lái)越廣泛的應(yīng)用。可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火,硅化物形成,歐姆接觸制備以及快速氧化,快速氮化等方面。
該設(shè)備具有很好的長(zhǎng)時(shí)間工作穩(wěn)定性以及快速升降溫,慢速升降溫功能,采用三回路閉環(huán)溫度控制,精確的溫度控制部件可適用于特殊工藝要求,工藝重復(fù)性高,也可用于鐵電膜的制備以及各種半導(dǎo)體材料CVD的熱處理。
RTP快速退火爐主要用于:快速燒結(jié)、快速退火等工藝。具有:溫度均勻、控制穩(wěn)定等特點(diǎn),觸摸屏操作方式(設(shè)備小巧,節(jié)約空間)。
快速熱處理退火爐簡(jiǎn)稱(chēng) RTP(Rapid Thermal Processing Furnace),由我公司借鑒了制造工藝,在管式爐的基礎(chǔ)上自主研發(fā)而成。
這款不但擁有很快的升溫速率100℃/S,而且降溫速率也有了質(zhì)的飛躍,降溫速率100℃/S。我們的工程師們巧妙的設(shè)計(jì)工藝使得冷卻氣體直接對(duì)著樣品直吹,以至于達(dá)到如此快的降溫速度。真正的極速升溫和極速降溫!
此款設(shè)備采用了成儀自主研發(fā)的智能AIO(All In One)控制系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了爐膛自動(dòng)左右移動(dòng),爐膛在左側(cè)加熱到設(shè)定溫度后,直接移動(dòng)到右側(cè)樣品區(qū)域,實(shí)現(xiàn)樣品快速升溫,樣品加熱到設(shè)定溫度和時(shí)間后,爐膛自動(dòng)移開(kāi)樣品加熱區(qū),實(shí)現(xiàn)樣品的快速降溫。
成儀AIO智能控制系統(tǒng)不但實(shí)現(xiàn)了真空系統(tǒng)開(kāi)啟、保護(hù)氣氛通斷以及冷卻氣體通斷的自動(dòng)協(xié)調(diào)控制,而且還能自動(dòng)平衡爐管內(nèi)的壓力大小,真正實(shí)現(xiàn)了操作方便,而且安全可靠。
功能舉例:樣品加熱到1000℃后,爐膛自動(dòng)移開(kāi)加熱區(qū),冷卻氣體自動(dòng)打開(kāi)直吹樣品表面實(shí)現(xiàn)極速降溫,樣品溫度降到70℃時(shí)自動(dòng)關(guān)閉冷卻氣體。
然后爐膛移動(dòng)到加熱區(qū)繼續(xù)加熱,如此往復(fù),往復(fù)次數(shù)可用戶自定義。真空系統(tǒng)可根據(jù)用戶設(shè)定溫度自動(dòng)開(kāi)啟和關(guān)閉。